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合肥超聲波清洗機廠家 合肥超聲波清洗機生產(chǎn)廠家
工藝流程
1、研磨后的清洗
研磨是光學玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種： 一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。
半水基清洗采用的清洗流程如下:
半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥
此種清洗工藝同溶劑清洗相比zui大的區(qū)別在于，其前兩個清洗單元：有機溶劑清洗只對瀝青或漆片具有良好的清洗效果，但卻無法清洗研磨粉等無機物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機污染物，還對研磨粉等無機物有良好的清洗效果，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在*個清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用，所以第二個單元須市水漂洗，并且將其設(shè)為流水漂洗。
國內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較昂貴。
從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。
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王翠翠
